誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

薄膜形成装置　一覧

　

スパッタリング装置

単結晶の金属酸化膜を作成する為の高真空成膜装置です。
・多元スパッタリング装置・簡易スパッタ装置　・マグネトロンスパッタ装置　・ICPスパッタ装置

　

有機デバイス製作装置

有機蒸着室、金属蒸着室、ロードロック室で構成された有機電子デバイス作成装置です。

　

レーザーアブレーション装置

無冷媒型の小型物性測定装置で、温度範囲50-400k、最大印加磁場3T、従来のPPMSと同様な各種物性の自動測定が可能です。

　　

マルチ蒸着システム装置

EB蒸着室、通電加熱蒸着室、ロードロック室、グローブ
ボックス等により構成されている薄膜形成装置です。

　

熱CVD装置

化学反応により膜を堆積する方法を利用したCVD装置です。

　

電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)

チャンバーサイズ及び、ポート数、フランジ規格、表面処理、排気系等はご所望にあわせ作製が可能です。電子銃は最大6種類の試料充填が可能です。各種装置への接続が可能です。